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XAFS-05 / XAFS 原位池

高低温同步辐射原位池

同步辐射 X 射线透射,半导体 TEC 加热/制冷,-20 °C ~ 60 °C

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技术参数与实验条件

核心作用
同步辐射 X 射线透射表征用小型高低温原位池,采用半导 体热电片实现 -20 °C ~ 60 °C 加热/制冷,适合电池等温度敏感样品
光路 / 探测
前后双窗透射 X 射线,常用 Kapton 或铍窗,用于XAFS / XRD / 成像
温控方式
半导体热电片(TEC/Peltier),一面贴样品台、一面接水 冷头/散热器;PT100 或热电偶 PID 闭环控温
流体
可设计为静态液池或流动液池;可选气氛置换,防止冷凝 ,水冷
密封 / 结构
扁平长方形腔体,O 形圈或硅胶垫密封;外壳可加干燥气帘防止低温结露
样品承载
样品固定于铜/铝温控块中心,液层厚度由垫片控制(常见 0.5–2 mm)

材料、窗口、温控和接口按具体实验条件选配,实际配置以技术协议为准。

主要配置与材料

部件数量材质 / 规格备注
上盖板1316L / 铝合金 / PEEK压紧窗口与样品腔
下底座1316L / 铝合金 / PEEK支撑样品台与温控模块
前/后透射窗2Kapton / 云母X 射线进出、低吸收
O 形密封圈2FKM / 硅胶窗片与腔体密封
样品台 / 温控块1铜 / 铝导热并承载样品

资料依据:原位池产品册 V7,第16页。所列为可选配置,供货组成以确认的技术协议为准。

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EXPERIMENT PREPARATION

安装与实验配套

按本型号的窗口、材料、温度与压力条件配置实验环境,并与主机的探测几何及样品空间核对。

请在选型时提供主机型号、样品形态和反应条件,以确认接口、温控、气液路及外接设备需求。

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