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XRD-04 / XRD 原位池

高低温 XRD 原位池

-196 °C ~ 600 °C 宽温域 XRD 原位表征,可通气氛/真空

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技术参数与实验条件

核心作用
在 -196 °C 到 600 °C 宽温域内对粉末、薄膜或块体样品进行原位 XRD 表征,可通气氛或抽真空
光路 / 探测
前后或上下开窗,XRD 光束透射或反射通过样品;窗口可选 Kapton、石英、蓝宝石或铍窗
温控系统
高温:加热棒/加热丝 + K 型/S 型热电偶;低温:液氮/液氦冷指/冷却通道 + PID 温控
气氛控制
可通惰性或反应气体,可选真空抽口;真空指标请咨询
密封 / 结构
立方/圆弧形热区腔体;高温用石墨/金属 C 环/铜垫,低温用铟丝/金属垫片
样品承载
样品置于中心样品台/加热块上,位于温控均匀区与光路中 心

材料、窗口、温控和接口按具体实验条件选配,实际配置以技术协议为准。

主要配置与材料

部件数量材质 / 规格备注
热区腔体1316L 不锈钢 / 镍基合金耐高温、耐腐蚀
XRD 窗法兰2不锈钢 + 窗口卡环固定透射窗
透射窗片2Kapton / 铍窗X 射线进出
高温密封垫片2石墨 / 金属 C 环 / 铜垫高温密封
低温密封件2铟丝 / 金属垫片低温密封

资料依据:原位池产品册 V7,第9页。所列为可选配置,供货组成以确认的技术协议为准。

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EXPERIMENT PREPARATION

安装与实验配套

按本型号的窗口、材料、温度与压力条件配置实验环境,并与主机的探测几何及样品空间核对。

请在选型时提供主机型号、样品形态和反应条件,以确认接口、温控、气液路及外接设备需求。

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