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XRD-05 / XRD 原位池

XRD 气体池

气-固反应原位 XRD,可控气氛/流动反应气

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技术参数与实验条件

核心作用
用于气-固反应原位 XRD 的密封气体池,可在可控气氛或 流动反应气条件下实时采集粉末/薄膜催化剂的物相变化
光路 / 探测
XRD 光束穿透样品区采集衍射;可配合加热附件实现程序 升温反应(TPR/TPO)与原位 XRD 联用
气路
侧向进气口 / 出气口,气体流经样品表面或渗透通过粉末床
样品承载
中心凹槽/样品台,粉末平铺或薄膜固定
密封 / 结构
O 形圈,保证气氛不泄漏;圆盘/圆盖式法兰腔体
温控(可选)
可配加热套/加热棒,做程序升温实验

材料、窗口、温控和接口按具体实验条件选配,实际配置以技术协议为准。

主要配置与材料

部件数量材质 / 规格备注
上法兰盖板1316L 不锈钢 / 铝合金压紧窗口与样品腔
下法兰底座1316L 不锈钢 / 铝合金支撑样品台与气路
XRD 透射窗1~2Kapton 25–50 / 铍窗X 射线进出
O 形密封圈1~2FKM / FFKM / 硅胶气氛密封
样品台 / 凹槽1316L / 石英 / 陶瓷承载粉末或薄膜

资料依据:原位池产品册 V7,第10页。所列为可选配置,供货组成以确认的技术协议为准。

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EXPERIMENT PREPARATION

安装与实验配套

按本型号的窗口、材料、温度与压力条件配置实验环境,并与主机的探测几何及样品空间核对。

请在选型时提供主机型号、样品形态和反应条件,以确认接口、温控、气液路及外接设备需求。

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